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OTF-1200X-F3LV 開啟式單溫區低真空CVD系統

應用范圍：開啟式單溫區低真空CVD系統OTF-1200X-F3LV是由開啟式單溫區管式爐、機械泵、三通道浮子混氣系統組成，可為CVD或擴散實驗提供1-3種的混合氣體，真空度可達10-2torr。

產品型號：OTF-1200X-F3LV

上架時間：2020-04-16

重量：60kg

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開啟式單溫區低真空CVD系統OTF-1200X-F3LV是由開啟式單溫區管式爐、機械泵、三通道浮子混氣系統組成，可為CVD或擴散實驗提供1-3種的混合氣體，真空度可達10-2torr。

功能特點

雙層殼體，配有循環風冷系統，殼體溫度<60℃。
內爐膛表面涂有美國進口氧化鋁涂層，可以提高加熱效率，同時延長使用壽命。
采用PID控制器，可以設置30段升降溫程序。
設有超溫及斷偶報警功能。
已通過CE認證。

技術參數
安裝條件	本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。
水	不需要。
電	AC220V 50Hz，必須有良好接地
氣	設備腔室內需充注氣體，需自備氣瓶氣源
工作臺	尺寸600mm×600mm×700mm，承重150kg以上
通風裝置	需要
電源	AC 220V 50/60Hz 2.5KW
石英管	外徑?80mm，內徑?75mm，長1000mm
加熱元件	摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲
加熱區域	440mm
恒溫區域	150mm
工作溫度	最高1200℃，連續工作1100℃
最大升降溫速率	20℃/min
控溫精度	±1℃
真空度	5.5×10-3torr（機械泵），10-4torr（分子泵）
泄漏率	<5mtorr/min
浮子流量計	3個；10ml/min-100ml/min，16ml/min-160ml/min，25ml/min-250ml/min
壓力表	4個
管式爐尺寸	550mm×380mm×520mm
混氣系統尺寸	600mm×600mm×597mm
重量	60kg

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OTF-1200X-F3LV 開啟式單溫區低真空CVD系統

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